8月27日晚间，拓荆科技（688072.SH）发布的2024年半年报显示，报告期实现营业收入12.67亿元，同比增长26.22%；实现归属于上市公司股东的净利润1.29亿元，同比增长3.64%。

　　拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。自成立以来，公司始终坚持自主研发，目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD等薄膜设备产品系列，该产品系列已广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线。此外，公司推出了应用于晶圆级三维集成领域的混合键合设备产品系列，已实现产业化应用。

　　报告期内，受益于持续高强度的研发投入，拓荆科技在推进产品产业化和各产品系列迭代升级的过程中取得了重要成果,公司收入稳步增长。2024年上半年，公司实现营业收入12.67亿元，同比增长26.22%；出货金额32.49亿元，同比增长146.50%。截至报告期末，公司发出商品余额31.62亿元，较2023年末发出商品余额19.34亿元增长63.50%，为后续的收入增长奠定良好基础。

　　随着拓荆科技产品布局逐渐完善，客户认可度持续攀升，出货机台陆续实现收入转化，2024年第二季度，公司营业收入达到7.95亿元，同比增长32.22%，环比增长68.53%。

　　半年报显示，报告期内，拓荆科技实现归属于上市公司股东的净利润1.29亿元，同比增长3.64%。净利润低于营收的增速主要原因为，公司持续进行高强度研发投入，同时进一步扩大公司产品及工艺覆盖面，提升产品核心竞争力，报告期内研发费用达3.14亿元，同比增长49.61%；为支持业务规模的高速增长及快速响应客户的需求，报告期内销售人员薪酬等费用有所增加，销售费用达1.60亿元，同比增长39.24%。2024年第二季度，公司实现归属于上市公司股东的净利润1.19亿元，同比增长67.43%，环比增长1032.79%。

　　2024年上半年，拓荆科技不断突破核心技术，持续推进各系列产品的迭代升级与产业化应用，并取得了重要成果，超高深宽比沟槽填充CVD设备、PE-ALD SiN工艺设备、HDPCVD FSG、HDPCVD STI工艺设备等新产品及新工艺陆续通过客户验证，实现产业化应用，产品市场竞争力持续增强，公司新签销售订单及出货金额均同比大幅增加，在手销售订单充足。

　　随着业务规模逐步扩大和先进产品陆续推出，拓荆科技的设备出货量大幅增加。2024年上半年，公司出货超过430个反应腔。截至报告期末，公司累计出货超过1940个反应腔（包括超过130个新型反应腔pX和Supra-D），进入超过70条生产线。

　　报告期内，拓荆科技设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异，平均机台稳定运行时间（Uptime）超过90%（达到国际同类设备水平）。公司薄膜系列产品在晶圆制造产线的量产应用规模持续扩大，截至报告期末，公司薄膜沉积设备在客户端产线生产产品的累计流片量已突破1.94亿片。